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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具,可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。
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三维原子层沉积系统 ALD
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PICOSUN原子层沉积设备ALD
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统原子层沉积(ALD)
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统可以提高材料性能和使用寿命,特别适用于锂电池的正极或负极材料。目前工业上常用的包覆方法是机械混合的干法,但这种方法无法实现均匀包覆并且性能提升有限。ALD技术
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
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